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劃片機(jī)資訊

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劃片機(jī)贏來國家支持,國產(chǎn)劃片機(jī)引領(lǐng)突圍戰(zhàn)怎么做?

國產(chǎn)劃片機(jī) 2021-04-25

  從去年疫情開始,沈陽漢為科技有限公抓住此契機(jī),劃片機(jī)贏來國家支持,在外國疫情持續(xù)得不到有效控制,正處于技術(shù)疲軟之際,國產(chǎn)劃片機(jī)適時(shí)殺入,從目前市場銷售情況看來,需求量已經(jīng)越來越大,月均可出貨30-100臺(tái)左右。那么國產(chǎn)劃片機(jī)引領(lǐng)突圍戰(zhàn)怎么做?等離子劃片工藝流程如下所示:

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 ?。?)減薄

  按照工藝要求,將圓片減薄至設(shè)計(jì)厚度。通常情況下,減薄屬于劃片上工序。在等離子劃片中,減薄成為工序的一部分,目的是降低等離子刻蝕過程中產(chǎn)生的熱量。

  (2)涂膠

  在圓片表面涂覆光刻膠,通常采用 PI 作為刻蝕屏蔽層。所用設(shè)備為前道圓片制造中的標(biāo)準(zhǔn)涂膠設(shè)備及工藝。

 ?。?)光刻

  按照圓片厚度計(jì)算劃片槽刻蝕寬度,在劃片槽中光刻出所需圖形。通常按照圓片厚度與刻蝕寬度比小于 20:1 的原則選擇劃片槽刻蝕寬度。

 ?。?)貼膜

  按照不同的劃片方向(正面劃片或背面劃片),在圓片背面或正面貼上劃片膜(包括環(huán)框)。

 ?。?)等離子刻蝕

  對圓片正面或背面進(jìn)行等離子刻蝕。以硅圓片為例,通常采用 C 4 F 8 、SF 6 兩種刻蝕氣體交替使用,其中C 4 F 8 用以鈍化,SF 6 用以刻蝕。去膠等離子刻蝕后,采用去膠機(jī)去除多余的光刻膠。

 ?。?)摘片

  最后摘取劃開的芯片,完成整個(gè)等離子劃片過程。

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