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劃片機(jī)資訊

源于傳承 精芯智造

向下滑動(dòng)

劃片機(jī)廠家專利技術(shù)解析一種晶圓加工劃片用噴水罩

國產(chǎn)劃片機(jī) 2025-03-06

在晶圓切割(劃片)過程中,高速旋轉(zhuǎn)的金剛石刀片與晶圓摩擦?xí)a(chǎn)生高溫和碎屑,可能導(dǎo)致以下問題:

熱損傷:局部高溫導(dǎo)致晶圓材料微裂紋或分層。

污染:碎屑附著在晶圓表面或刀片上,影響切割精度和設(shè)備壽命。

冷卻不足:傳統(tǒng)噴水罩可能存在水流覆蓋不均、壓力不穩(wěn)定或廢水回收效率低等問題。

現(xiàn)有噴水罩設(shè)計(jì)通常為固定式結(jié)構(gòu),難以動(dòng)態(tài)適配不同切割參數(shù)(如刀速、切割深度)或晶圓材料特性(如硅、化合物半導(dǎo)體、玻璃等),導(dǎo)致冷卻效率與清潔效果受限。

專利核心創(chuàng)新:噴水罩設(shè)計(jì)優(yōu)化

該專利可能聚焦于噴水罩的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、流體控制及功能集成,具體創(chuàng)新點(diǎn)可能包括:

模塊化噴嘴陣列

采用可調(diào)節(jié)角度的多噴嘴設(shè)計(jì),根據(jù)切割路徑動(dòng)態(tài)調(diào)整水流方向,實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)冷卻和碎屑沖刷。

噴嘴間距和孔徑可適配不同刀片寬度(如薄刀片切割窄道時(shí)需更集中水流)。

動(dòng)態(tài)水流控制系統(tǒng)

集成壓力傳感器和流量控制器,實(shí)時(shí)匹配切割參數(shù)(如刀片轉(zhuǎn)速、進(jìn)給速度),實(shí)現(xiàn)自適應(yīng)水壓與流量調(diào)節(jié)。

例如:高速切割時(shí)增大水流壓力以快速散熱,低速切割時(shí)減少用水量以降低成本。

導(dǎo)流與防濺結(jié)構(gòu)

通過內(nèi)部導(dǎo)流槽或擋板設(shè)計(jì),減少水流飛濺并提高廢水回收率(如專利可能提及“渦旋導(dǎo)流”技術(shù))。

增設(shè)防霧化裝置(如微孔濾網(wǎng)),避免水霧污染設(shè)備光學(xué)組件或晶圓表面。

環(huán)保與節(jié)能設(shè)計(jì)

內(nèi)置過濾系統(tǒng),分離切割碎屑與冷卻水,實(shí)現(xiàn)循環(huán)利用,減少純水消耗和廢水處理成本。

采用輕量化材料(如碳纖維增強(qiáng)塑料)降低設(shè)備負(fù)載,同時(shí)耐腐蝕延長使用壽命。

劃片機(jī)廠家專利技術(shù)解析一種晶圓加工劃片用噴水罩

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

提升切割質(zhì)量

均勻冷卻降低熱應(yīng)力,減少晶圓崩邊、微裂紋等缺陷,提高芯片良率。

高效碎屑清除避免刀片堵塞或劃傷晶圓。

增強(qiáng)工藝靈活性

適配多種材料(硅、GaN、陶瓷等)和良好封裝結(jié)構(gòu)(如TSV硅通孔、超薄晶圓)。

支持高精度切割(<10μm切割道)和異形切割(如曲線切割)。

降低運(yùn)營成本

水資源循環(huán)利用減少耗水量(尤其在缺水地區(qū)意義重大)。

延長刀片壽命(減少因碎屑堆積導(dǎo)致的磨損)。

潛在應(yīng)用場(chǎng)景

良好封裝工藝

適用于Fan-out、3D IC等對(duì)切割潔凈度要求極高的場(chǎng)景,避免碎屑?xì)埩粲绊懞罄m(xù)鍵合或堆疊。

Mini/Micro LED晶圓切割

脆性材料(如藍(lán)寶石襯底)對(duì)冷卻均勻性敏感,優(yōu)化后的噴水罩可減少外延層損傷。

功率器件加工

SiC、GaN等寬禁帶半導(dǎo)體材料切割時(shí)產(chǎn)熱高,需高強(qiáng)度冷卻,動(dòng)態(tài)水流控制可防止熱失控。

玻璃基板與光學(xué)元件切割

避免水漬或碎屑污染光學(xué)表面(如AR/VR鏡片、顯示屏玻璃)。

行業(yè)意義

國產(chǎn)替代加速:突破進(jìn)口設(shè)備在精密流體控制領(lǐng)域的技術(shù)壁壘,助力國產(chǎn)劃片機(jī)搶占高端市場(chǎng)。

綠色制造升級(jí):符合半導(dǎo)體行業(yè)節(jié)能減排趨勢(shì),推動(dòng)“零排放”晶圓廠建設(shè)。

技術(shù)延伸潛力:噴水罩的流體優(yōu)化技術(shù)可遷移至其他濕法工藝設(shè)備(如清洗機(jī)、蝕刻機(jī))。

需驗(yàn)證的關(guān)鍵問題

(專利細(xì)節(jié)未公開前提下需進(jìn)一步確認(rèn))

長期可靠性:噴嘴在高壓高頻工況下的抗堵塞和耐磨損性能。

兼容性驗(yàn)證:是否支持行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)刀片接口(如Disco系列)及不同品牌切割機(jī)。

成本效益分析:模塊化設(shè)計(jì)是否導(dǎo)致維護(hù)復(fù)雜度增加,初期投入與長期節(jié)水的平衡點(diǎn)。

劃片機(jī)廠家的發(fā)明公開了一種帶有接觸測(cè)高裝置的晶圓加工劃片機(jī),涉及劃片機(jī)測(cè)高技術(shù)領(lǐng)域,包括切割裝置和軌道支架組,切割裝置的下方設(shè)置有工作盤,軌道支架組軌道內(nèi)側(cè)傳動(dòng)連接有檢測(cè)裝置,還包括平整度檢測(cè)機(jī)構(gòu)以及用于檢測(cè)切割裝置刀片磨損程度的磨損程度檢測(cè)機(jī)構(gòu);平整度檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括與檢測(cè)裝置限位滑動(dòng)連接的檢測(cè)塊。本發(fā)明中,通過檢測(cè)塊的移動(dòng)對(duì)工件表面的平整度進(jìn)行檢測(cè),可以對(duì)工件表面各處區(qū)域?qū)崿F(xiàn)實(shí)時(shí)檢測(cè),通過第一傳動(dòng)腔的上細(xì)下粗設(shè)計(jì)對(duì)檢測(cè)結(jié)果實(shí)現(xiàn)放大,可以提升區(qū)分度和提升檢測(cè)的精準(zhǔn)度,直接檢測(cè)出存在缺陷的工件,同時(shí)可以通過第二檢測(cè)腔對(duì)不平整區(qū)域進(jìn)行記錄和統(tǒng)計(jì),實(shí)現(xiàn)對(duì)工件整體表面質(zhì)量的評(píng)估。

該噴水罩專利通過結(jié)構(gòu)創(chuàng)新與智能流體控制,解決了傳統(tǒng)劃片機(jī)冷卻效率低、資源浪費(fèi)大的痛點(diǎn),尤其適用于高精度、多材料、綠色化制造場(chǎng)景。若能實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,將顯著提升國產(chǎn)劃片機(jī)的綜合競(jìng)爭(zhēng)力,推動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈向高端化、可持續(xù)化發(fā)展。

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